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更新時(shí)間：2024-07-29 
瀏覽次數(shù)：1070曝光裝置是在半導(dǎo)體、液晶顯示器等制造現(xiàn)場使用的裝置，通過照射光在基板上描繪電路、像素等圖案。
由于它們使用強(qiáng)的光線并需要精確控制平臺等，許多產(chǎn)品體積龐大且成本數(shù)十億美元。曝光工藝是半導(dǎo)體和液晶顯示器制造中非常重要的設(shè)備，因?yàn)樗鼪Q定了設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)（ CAD數(shù)據(jù)）的圖案。每家公司都開發(fā)了多種曝光方法并在自己的設(shè)備中使用它們。
曝光設(shè)備主要用于半導(dǎo)體制造現(xiàn)場和液晶顯示器等平板顯示器（FPD）制造現(xiàn)場。
在半導(dǎo)體制造工藝中，以硅晶片為基板，形成氧化膜，涂敷光致抗蝕劑（感光材料），并通過光掩模用從曝光裝置發(fā)出的強(qiáng)紫外線照射涂敷表面。允許通過蝕刻等去除不需要的部分。這種使用曝光設(shè)備的方法稱為光刻法。
在LCD制造過程中，一般使用玻璃基板，并重復(fù)數(shù)個循環(huán)的金屬或其他薄膜沉積、光刻和蝕刻。
可以在一個基板上形成像素電極和開關(guān)元件(TFT元件等)，并且可以在另一基板上形成具有光的三基色(紅、綠和藍(lán))的濾色器。通過將兩個基板粘合在一起并在其間放置液晶材料，就完成了用于 LCD 顯示器的面板。
選擇曝光設(shè)備時(shí)，需要在購買前與設(shè)備制造商充分討論曝光所用光源的類型和精度、載物臺的精度等，因?yàn)槠鋬r(jià)格非常昂貴。
我們將解釋曝光設(shè)備的測量原理。曝光設(shè)備由光源、偏光鏡、光掩模、聚光鏡、工作臺、傳送硅片的機(jī)械手等組成。
鏡頭和光掩模的設(shè)計(jì)精度高，平臺的運(yùn)行精度也很高。操作過程中，曝光目標(biāo)精確固定在載物臺上。在操作中，每次曝光時(shí)載物臺都會移動，在曝光的物體上創(chuàng)建大量圖案。
從光源發(fā)出短波長的強(qiáng)光，偏光透鏡調(diào)整光的方向，然后照射到光掩模上，光掩模是配置電路圖案的原型。穿過光掩模的光被聚光透鏡聚焦，并在曝光的目標(biāo)上描繪出非常小的電路圖案。
一旦整個曝光目標(biāo)被曝光，它就會被機(jī)器人或其他設(shè)備運(yùn)輸。根據(jù)產(chǎn)品的不同，曝光目標(biāo)會滲透到液體中，有些產(chǎn)品的設(shè)計(jì)旨在實(shí)現(xiàn)更準(zhǔn)確的曝光。
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